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ASML供应商着火,中芯光刻机生变?

作者:admin      发布日期:2018-12-04   点击:

ASML供应商着火,今天a股大盘走势中芯光刻机生变?

2018-12-04 16:28来源:华商韬略官方账号华为/三星/股权

原标题:ASML供应商着火,中芯光刻机生变?

文/ 华商韬略 张津京

荷兰光刻机霸主ASML公司刚刚发布消息,其主要元件供应商Prodrive工厂12月1日发生火灾,ASML预计明年年初出货预计将遭递延。ASML公司在光刻机领域是世界当之无愧的霸主,几乎垄断全部的高精度芯片级光刻机市场。而这家公司也以年度产量低下闻名世界。

▲ASML相关公告

目前数据显示,2018年全年ASML产量应该在18台左右,预计2019年会有大规模增加,能到达30台。而按照中芯国际的相关报道,2017年年底已经乐成预定ASML公司2019年1台7mm光刻机的订单。

ASML已经确认,2018年的订单不会受到影响,但2019年订单必定要顺延。这不仅会影响到芯片军团的7纳米之争,更对中国芯片财富带来巨大挑战。

垄断一切的ASML

谈起ASML,这是一家低调的大佬级企业。坐落于荷兰的这家公司,主营业务就是出产光刻机,尤其是芯片级的EUV。众所周知,芯片就是用光刻机在硅片上蚀刻出来的,光刻机是芯片制作最基础的工具,而光刻机的精度就决定了芯片的精度。但ASML技术太复杂,产量一直上不去,2018年ASML在市场出货量预计破天荒到达18台。

目前在28纳米以下的高精度芯片光刻机市场,只有ASML一家供应商。也就是意味着,如果企业想选用主流芯片技术,就不行制止的成为ASML设备出产的芯片产物的用户。

荷兰是全球为数不多拥有完整半导体财富链的国家,其半导体财富年收益高达百亿欧元以上。ASML这家公司1984年从飞利浦独立出来后,今天a股为何大跌受益于荷兰完整的半导体财富链,取得了飞速成长。

说实话,光刻机技术没有捷径。如果没把握1微米的技术,就出不来90纳米的技术,没有90纳米就出不来45纳米技术,而此刻最新的技术实力,ASML是唯一一个可以提供完整7纳米光刻机技术的厂商。

更有意思的是,只有投资ASML,才气够获得优先供货权。这样奇特的合作模式使得ASML获得了大量的资金,包罗英特尔、三星、台积电、海力士都在ASML中有相当可观的股份,可以说泰半个半导体行业都是ASML一家的合作伙伴,形成了庞大的共同体,几乎是全行业的利益垄断。

7纳米芯片之争有变

此次大火后,最受影响的就是目前三星和台积电正在如火如荼展开的7纳米之争。

2019年双方比拼的核心产物,都是7纳米的芯片。目前可以知道的是,三星将于2019年第二季度推出本身的7纳米芯片,而台积电最迟到2019年8月,也会将代工的7纳米华为麒麟990芯片推向市场。作为芯片出产的龙头企业,这两家的动向深刻影响着行业变局。

但是突发的一场大火,可能会将7纳米芯单方面世时间往后顺延。据相关人士介绍,目前ASML仍提供的是12纳米和10纳米芯片光刻机,并没有大规模向外提供7纳米精度的光刻机产物。

而此次着火的主要元件供应商Prodrive公司,据业内人士透露是向ASML提供光头控制整体解决方案和光刻机中控板的厂商,是最核心的合作伙伴,双方有互换股权深度绑缚。

这次着火后,ASML公司公告显示,2018年订单不受影响。有阐明师认为,这意味着2018年年度出产所需要的中控和光头控制主板,已经交货。公告还称2019年交货将顺延,也就意味着实际上7纳米光刻机的相关控制主板,ASML还没有从Prodrive公司获得,或者还未通过出产线不变测试。

那也就意味着,一般两个月的新产物出产线测试,由于此次大火会往后顺延。而未经出产线测试,最终的7纳米光刻机不行能下线交货。这也为三星与台积电的7纳米芯片大战带来一层阴影。

本身有才是真的

中芯国际2019年按原打算将获取1台ASML制造的7纳米EUV光刻机。说实话,按照美国牵头制定的《瓦森纳协定》,欧洲和美国的企业在高技术上实际是对中国进行了严格的技术封锁,ASML也一直以来拒绝向中国出售最新光刻机产物。此次破天荒接受中芯国际的订单,一方面是国际贸易方面美欧争端加剧的产品,另一方面也与中国正在攻关相关光刻机技术有关。

2018年5月11日,上海微电子举行第100台国产高端光刻机交付产线暨产物发运长电先进仪式。上海微电子的光刻机是首次在国内实现了不变的前道90纳米制程芯片出产,有半导体业界人士暗示,霸占90纳米技术后,65和45纳米技术都应该是顺理成章的,预计上海微电子已经在尝试室内实现了相关技术进程。而再低一些的28纳米和14纳米进程,才是最近几年国内攻关的重点。

正是在上海微电子90纳米进程光刻机不变下线后不到一周,ASML就决定对中芯国际求购1台7纳米光刻机订单放行,其中的玄妙不难猜测。

另外11月29日,网络媒体一阵自嗨。因为国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,这是我国乐成研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力到达22纳米,结合多重曝光技术后,可用于制造制程小于10纳米的芯片。

但这是抄了近路取了巧,一来加工晶圆的巨细不能凌驾4英寸,二来复杂的图形不能蚀刻,因此这样的技术运用于商业化芯片出产还有距离。按照相关主流报道显示,中科院这个技术已经确认的应用前景更多的是在在光子晶体阵列、高精密光栅等光学器件领域。目前已经实现包罗纳米透镜和波前调控等超质料/超外貌器件,大口径轻量化薄膜镜等第三代光学器件,切伦科夫辐射、LSPR和SERS生化传感、超导纳米线单光子探测等系列新型纳米器件的制造。固然,技术优化下去,这台光刻机有可能攻破商业芯片出产的难关。

但这代表着我们的技术人员在努力。如果没有他们,说实话我们可能连28纳米的光刻机都买不到。

也就印证了一句话:本身有才是真的。只要你打破了技术,就没有人能卡住你的脖子。

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图片均来自网络

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